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产品介绍

双槽式溅射成膜装置 RAS-1100BII

系采用了本公司自主研发的RAS法(Radical Assisted Sputtering:激化辅助溅镀法)的中型量产用型号,实现了在低温下以良好的再现性制造波长稳定的高品质光学薄膜,以及包括装饰膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。
RAS-1100BII

双槽式溅射成膜装置 RAS-1100C

系采用了本公司自主研发的RAS法(Radical Assisted Sputtering:激化辅助溅镀法)的小型候选机型,实现了在低温下以良好的再现性制造波长稳定的高品质光学薄膜,以及包括装饰膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。
RAS-1100C

高速(IAD)真空镀膜设备 MIC-1350

MIC-1350是以SHINCRON长久以来的研究技术为基础,维持高性能,高产量的原则,与以往同型号相比实现了更高的性能价格比。
MIC-1350

连续式真空镀膜机 CES系列

CES系列是可以生产优质光学薄膜的连续式真空镀膜机,具备极高的再现性。
安装了增添多种技术的元件,可以进行各种用途的成膜。
备有丰富多彩的机型,可以满足客户的需求。
这是一款拥有500多台销售业绩的SHINCRON推荐装置。
CES系列

精密真空镀膜机 ACE系列

实现了高性能、高通用性的标准型真空镀膜机。可以从丰富多彩的型号中选择符合用途的装置。
ACE系列是在玻璃基片上形成高精度光学多层薄膜的精密真空镀膜机。将满足客户需求的多种元件组合在一起,可以形成品质更加优良的薄膜。
ACE系列

高速溅镀装置 BSC系列

BSC系列是全自动溅镀装置,可以在滤色片、玻璃基片上形成多层SiO2、ITO等,兼具出色的溅镀技术和很强的量产能力。
机型齐全,可满足从小规模生产到大量生产的广泛需求。。
BSC系列

高速溅镀装置 BMS系列

是一款增添了最新的镀膜技术,可以满足更广泛用途的镀膜需求的溅镀装置。
BMS系列

双槽式高功能金属用镀膜装置 PMC系列

PMC系列大幅度提高了SAW滤光片等用膜质的稳定性。
可以最大限度地提高铝(Al-Cu合金)膜的品质。
PMC系列

光学式膜厚计 OPM系列

离子源

成膜电脑系统

元件