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开发“薄膜型”固体氧化物燃料电池

SHINCRON与中国科学技术大学共同研究室,在备受关注的清洁能源固体氧化物燃料电池(SOFC)的结构元件“电解质膜”的生产中,应用SHINCRON的专利技术Radial Assisted Sputter,成功地开发出“薄膜型”电解质膜。运用真空成膜技术,使传统生产方法无法实现的电解质膜的致密性和均匀性得到飞跃性提高,大大推进了低温高效SOFC的实现。


1.大面积均匀成膜
2.以纳米尺度成膜和控制组成
3.膜厚控制精度不低于0.5nm
4.采用低温加工,界面结合良好
5.量产化技术 1台RAS-1100C的年生产能力达到7MW

用RAS-1100C制作的YSZ薄膜
SOFC单体输出特性评价结果
用RAS-1100C制作的YSZ薄膜
 1.基片:NiO-YSZ
 2.膜厚:10μm
 3.结晶结构:立方晶系、萤石结构
 4.ASR= 0.08 Ω cm @750 ℃
 5.膜厚均匀性:<±1%
 6.致密性:单体实机检查OCV > 1.0V


SOFC单体输出特性评价结果
 1.OCV:1.01 V @750 ℃
 2.最大输出:>0.6 W/cm2@750 ℃
 3.评价试验气体:H2/Air
中国科学技术大学
中国科学技术大学是九所中国国家重点大学之一,在基础科学研究方面独领风骚,拥有最优秀的研究队伍和出色的业绩,是唯一拥有多个国家试验室的大学,位于安徽省合肥市。
共同研究室
SHINCRON-中国科学技术大学共同研究室以新一代真空镀膜技术及其应用研究为目的,于2004年10月在中国科学技术大学内正式揭牌。所长为该大学校长侯建国(中国科学院院士)、首席科学家(Chief Scientist)为本公司董事(该大学客座教授)长江亦周。
Radial Assisted Sputter
Radial Assisted Sputter是一种低温高效生产高品质电介质薄膜的新溅镀法。膜厚控制的自由度很高,并且再现性非常出色,因此,不仅被用于光学薄膜生产,而且还被用于EL生产和装饰膜生产等。除了适合大量生产电介质薄膜的RAS-1100BⅡ、量产用的RAS-1100C之外,还有超大型定制式RAS-3000。
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