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ACE

精密真空薄膜形成装置 ACEシリーズ

ハイパフォーマンスを実現した真空薄膜形成装置で汎用性の高いスタンダードタイプです。目的にあった装置を多彩なバリエーションの中からご提案いたします。
ACEシリーズは、ガラス基板に高精度な光学多層薄膜を成膜する精密真空薄膜形成装置。お客様のニーズにお応えする多様なコンポーネントを組み合わせることにより、さらに高品質の薄膜を形成することができます。

特徴

LINE UP

システム構成

基板ドーム 球状ドーム(Φ718、Φ950、Φ1200、Φ1400、Φ1700)、テーパードーム、平板治具、反転治具
光学式膜厚計 OPM-Z1
水晶式膜厚計 XTC/3S、IC/6
コンピュータシステム SDC-I
蒸発源 電子銃方式、抵抗加熱方式
ハース φ35/φ40ルツボ
イオン源 NIS-175、NIS-120、イオンビームアシスト、イオンビームクリーニング

装置性能

排気時間 2×10-3Paまで10分以内(基板温度300℃設定)
到達真空圧 5×10-5Pa以下
基板加熱温度 常用250℃
膜厚分布 Δnd<±1.0%以内(当社標準出荷基準による)

設置条件(例)

ACE-1350S
所要電力 3相 200V±10% 約70kW(最大電力)
所要冷却水 約72L/min、18〜25℃(標準20℃)
所要圧縮空気 0.5MPaG以上(最高0.7MPaG)
据付面積 W5150mm×D7000mm×H3150mm、天井高さ3500mm以上
総質量 約7600kg

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※製品の仕様は、性能向上のため予告なく変更されることがございます。
詳しくは、当社営業スタッフまでお問い合わせください。