SHINCRON Co.,Ltd. > 产品介绍 > 产品一览 > RAS > RAS-1100BII

产品介绍

双槽式溅射成膜装置 RAS-1100BII

系采用了本公司自主研发的RAS法(Radical Assisted Sputtering:激化辅助溅镀法)的中型量产用型号,实现了在低温下以良好的再现性制造波长稳定的高品质光学薄膜,以及包括装饰膜在内的功能性薄膜、氮化膜等。

优点

RAS的镀膜例子

系统构成

基板取付 旋转式立式伞架
光学式膜厚计 选购件
水晶式膜厚计
电脑系统 SSC-1
RAS机构 溅射源+氧化反应源
旋转负极 选购件
追加目标 选购件(真空室1专用、仅1枚)
高真空排气系统 选购件(仅真空室1)

设备性能

排气时间(成膜室) 达到1×10-3Pa不超过30分钟(测量条件按本公司标准)
排气时间(前室) 从大气压到7Pa不超过7分钟(测量条件按本公司标准)
极限真空压 不超过1×10-4Pa
基片加热温度 不加热
膜厚分布 CV(变动系数)=不超过0.5%(按本公司标准发货基准)

安装条件

所需电力 三相 200V±10% 约68kW(最大电力)
所需冷却水 约140L/min、18〜24℃(标准20℃)
所需压缩空气 不低于0.5MPa(最高0.7MPa)
安装面积 W4300mm×D6300mm×H2700mm,顶棚高度不低于3000mm
总重量 约9000kg

有关RAS-1100BII的咨询

※产品规格如因提高性能之需而变更,恕不提前通知。详情请向本公司营业人员咨询。