发展历程
希望今后也能坚持着在光学薄膜的史册上留下名字。
| 1951（昭和26）年 | 有限会社真空器械研究所成立 |
|---|---|
| 1960（昭和35）年 | 改制为真空器械工业株式会社 |
| 1971（昭和46）年 | 总部大楼建成 |
| 1982（昭和57）年 | 鲛洲工厂（原 技术开发中心）建成 |
| 1989（平成元）年 | 鹤冈工厂竣工 |
| 1991（平成3）年 | 更名为株式会社SHINCRON |
| 1998（平成10）年 | 取得ISO-9001认证 |
| 2002（平成14）年 | 开设台湾分公司 |
| 2003（平成15）年 | 与株式会社SHINCRON鹤冈合并 |
| 2003（平成15）年 | 上海新柯隆成立 |
| 2004（平成16）年 | 台湾真空龙成立 |
| 2005（平成17）年 | 深圳新柯隆成立 |
| 2006（平成18）年 | 取得ISO-14001认证 |
| 2007（平成19）年 | SHINCRON马来西亚成立 |
| 2008（平成20）年 | 在横滨港未来21地区建成新总部 |
| 2008（平成20）年 | SHINCRON 技术泰国成立 |
| 2010（平成22）年 | 上海新柯隆机械制造有限公司成立 |
| 2011（平成23）年 | 创业60周年 |
| 2011（平成23）年 | 上海工厂迁址扩建 |
| 2014（平成26）年 | 总部大楼新办公楼建成 |
| 2015（平成27）年 | SHINCRON 美国成立 |