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新产品资讯：实现高精度结晶性薄膜的新一代溅射装置
2025.06.13
新一代溅射设备SCP-SX可实现高精度结晶薄膜沉积。
SCP-SX 可在低温条件下实现高品质结晶薄膜。其独特设计的阴极可调节位置与倾斜角度，
可针对多种材料与基板实现最佳成膜条件，在材料开发和工艺探索方面具有显著优势。
在研发过程中，不仅可以精确调控工艺并优化不同材料的成膜条件，借助多腔平台结构，
还可实现从开发到量产的无缝扩展。
2025.06.13
新一代溅射设备SCP-SX可实现高精度结晶薄膜沉积。
SCP-SX 可在低温条件下实现高品质结晶薄膜。其独特设计的阴极可调节位置与倾斜角度，
可针对多种材料与基板实现最佳成膜条件，在材料开发和工艺探索方面具有显著优势。
在研发过程中，不仅可以精确调控工艺并优化不同材料的成膜条件，借助多腔平台结构，
还可实现从开发到量产的无缝扩展。