连续蒸镀设备
具有良好稳定性和量产性的畅销机型
- 用途：
- 光学
蒸镀室不是一成膜就暴露在大气中，成膜工艺室可以始终保持高真空状态。
因此折射率能保持稳定，可以极高的再现性生产高品质的光学薄膜。
支持洁净室的M型、支持多品种的D型等，提供丰富多彩的产品阵容以供选择。
特点
- 由于能保持蒸镀室的真空状态，因此可实现折射率稳定的高品质成膜
- 由于成膜、排气、加热和泄漏是在不同的腔室中同时进行的，因此生产率极佳
- 支持各种药品，配备供料机构，能够连续进行多种多样的成膜
- 投入伞架→成膜→取出伞架均实现自动化，可应对省人化需求
主要用途
- 防反射膜
- 相机镜头、眼镜镜片、智能手机镜头
规格概要
| 型号 | M型 CES-3M | S型 CES-3S | D型 CES-3D | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1100 | 1350 | 2000 | 900 | 1050 | 900 | 1100 | 1350 | |
| 基片伞架 | ⌀ 950 mm | ⌀ 1200 mm | ⌀ 1850 mm | ⌀ 718 mm | ⌀ 950 mm | ⌀ 718 mm | ⌀ 950 mm | ⌀ 1200 mm |
| 膜厚仪 | 光学膜厚仪、石英晶体膜厚仪（6点旋转传感器） | |||||||
| 蒸发源 | EB×2 | |||||||
| 辅助 | 射频离子源 | |||||||
| 排气系统 | 粗抽单元/扩散泵/涡轮分子泵 | |||||||
| 可选配件 | 低温泵/防水膜成膜机构 | |||||||
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