电介质薄膜用溅射设备
可稳定地形成电介质薄膜
- 用途：
- 电子、电气的控制
利用本公司多年积累的技术，可稳定地形成电介质薄膜。
可广泛应用于SiO2膜、SiN膜等保护膜的生产。
主要用途
- SAWFilter/BAWFilter/LED/Laser/PCB 等
规格概要
| 型号 | CSS-2 |
|---|---|
| 基片伞架 | ⌀ 650 mm |
| 溅射源 | 磁控溅射源（Φ10英寸）×3 |
| 溅射电源 | RF电源×3 |
| 排气系统 | 前室：粗抽泵 成膜室：涡轮分子泵1台+超级冷阱 |
垂询
我们将提供满足功能和应用等
方面需求的设备方案。
欢迎垂询。
方面需求的设备方案。
欢迎垂询。