通用蒸镀设备
满足广泛的成膜需求
- 用途：
- 光学颜色控制
从光学薄膜到金属膜、可以满足各种成膜相关要求的高通用型蒸镀设备。在保持高水平性能和大规模生产的同时，新型号实现了更高的性价比。为各种基片应用提供了广泛的可选配件，如球形伞架、分割伞架和反转托盘规格等，客户可以根据生产目的加以选择。
特点
- 采用大口径高输出离子源，
可实现离子辅助镀膜 - 采用可精确控制的光学膜厚计、
多点监测交换机构 - 涡轮分子泵可以在无油的清洁环境中进行成膜
- 针对排气和工艺过程中产生的微粒采取了措施
- 搭载有运行管理系统，
可用于实时状态监测和损失分析等 - 采用in-situ监测器能够提高成品率、缩短调整时间
主要用途
- 光学薄膜形成
- 金属膜形成
- 其他的广泛用途
规格概要
| 型号 | MIC-900 | MIC-1350 | MIC-1650 | MIC-1900 |
|---|---|---|---|---|
| 基片伞架 | ⌀ 800 mm | ⌀ 1200 mm | ⌀ 1500 mm | ⌀ 1700 mm |
| 膜厚仪 | 光学膜厚仪、石英晶体膜厚仪（6点旋转传感器） | |||
| 蒸发源 | EB×2 | |||
| 辅助 | 射频离子源 | |||
| 排气系统 | 粗抽单元、涡轮分子泵、迈斯纳线圈 | |||
| 可选配件 | 反转机构/行星旋转机构/自公转机构/分光特性调整支持系统OASYS | |||
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方面需求的设备方案。
欢迎垂询。
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