大型基片用溅射设备
RAS系列中生产率最高的最新机型
- 用途：
- 表面的控制颜色控制
为实现RAS系列有史以来的最高生产率开发而成的设备。
同时实现滚筒的大型化和装置的小型化、具有卓越单位面积产出率的设备。
RAS-2200最大限度地利用了本公司迄今为止所积累的RAS技术，为光学薄膜行业带去新优势。
特点
- 采用大型滚筒，提高了基片装载能力，并可支持大型基片的成膜
- 通过独立开发的预真空进样室式基片架搬送方式最大限度地减少了节拍时间的浪费
- 增加电阻加热蒸镀源，实现防反射和防污膜的连贯成膜
- 支持在曲面形状基片上成膜
- 紧凑的设计，提高了维护保养性
主要用途
- 防反射膜、硬质膜、装饰膜、各种光学滤光片等
- 车载、智能手机等的显示屏用盖板玻璃
- 智能手机等摄像头用盖板玻璃
规格概要
| 基片滚筒尺寸 | ⌀ 1800 mm×1500 mm |
|---|---|
| 激化源 | ICP RF激化源X3台 |
| 溅射电源 | Dual Cathode 68″ Rotary cathode |
| 排气系统 | 【CH-1】粗抽单元 【CH-2】14英寸TMP×6、迈斯纳线圈、粗抽单元 |
| 可选配件 | AFS机构・CH-2、基片加热机构・CH-1 |
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