电介质多层膜用预真空进样室式溅射设备
以电介质多层膜为主、面向电子装置市场的高性能化
- 用途：
- 电子、电气的控制
针对电子装置改善了本公司的RAS方式，实现了高性能化。
满足了高频设备的高功能/高频率要求。
特点
- TC(Temperature Compensated)-SAW所需温度补偿膜的事实标准设备
- 还有望进一步高频化，用作SMR(Solid Mounted Resonator)的声反射器用成膜设备
协助：千叶大学 桥本教授
规格概要
| 型号 | SLS-18 | SLS-27 |
|---|---|---|
| 基片滚筒尺寸 | ⌀ 1100 mm×230 mm | ⌀ 900 mm×400 mm |
| 辐射源 | ICP RF电源 | |
| 溅射源 | Dual cathode・18”×5”Planer cathode | Dual cathode・27”×5”Planer cathode |
| 排气系统 | 【CH-1】粗抽单元 【CH-2】14英寸TMP×2 迈斯纳线圈 粗抽单元 |
【CH-1】粗抽单元 【CH-2】14英寸TMP×4 迈斯纳线圈 粗抽单元 |
| 可选配件 | OPM-Z1/Rotary cathode/CH-1靶/Bias机构/SEMI/GEM标准界面 | |
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