誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置

独自開発のRAS方式により、優れた生産性・安定性を発揮

用途:
光学表面の制御色の制御

シンクロンが独自に開発したRAS(Radical Assisted Sputtering)方式により、波長シフトのない高密度な光学薄膜、装飾膜を含む機能性薄膜、窒化膜などを高い再現性をもって成膜できます。
また、低温成膜が可能なため、樹脂基板への多層膜が可能です。

特徴

  1. 波長シフトのない高密度な
    光学薄膜の形成が可能です
  2. 低温成膜のため、
    多様なアプリケーションに対応
  3. 高精度の膜組成、
    膜厚の制御が可能、
    蒸着ではできない機能膜を
    実現します
  4. 高屈折率材料と低屈折率材料による
    混合膜により、再現性の高い
    中間屈折率膜が可能に
  5. メンテナンス、
    掃除の負担を軽減する
    工夫がなされています
  6. 排気、プロセス中に発生する
    パーティクル対策が
    施されています
  7. 稼働管理システムを搭載、
    リアルタイムでの状況把握や
    ロスの解析等にご利用頂けます

主な用途

  • 光学薄膜の形成
  • 金属膜の形成
  • その他、幅広い用途に対応

仕様概要

型式 RAS-1100C RAS-1100BⅡ RAS-1600plus
基板ドラムサイズ Φ1100mm×230mm Φ900mm×400mm Φ1400mm×910mm
ラジカル源 ICP RF電源 ICP RF電源×2基
スパッタ源 Dual cathode・18”×5”Planer cathode Dual cathode・27”×5”Planer cathode Dual cathode・47”×5”Planer cathode
排気システム 【CH-1】あらびきユニット
【CH-2】14インチTMP×2
マイスナトラップ
あらびきユニット
【CH-1】あらびきユニット
【CH-2】14インチTMP×4
マイスナトラップ
あらびきユニット
オプション OPM-Z1/Rotary cathode/CH-1ターゲット/CH-1 AFS機構/CH-1 高真空排気系/遊星回転基板ドラム
お問い合わせ
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営業部
045-650-2411
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※製品の仕様は、性能向上のため予告なく変更されることがございます。詳しくは、当社営業スタッフまでお問い合わせください。