誘電体多層膜用ロードロック式スパッタ装置
独自開発のRAS方式により、優れた生産性・安定性を発揮
- 用途：
- 光学表面の制御色の制御
シンクロンが独自に開発したRAS（Radical Assisted Sputtering）方式により、波長シフトのない高密度な光学薄膜、装飾膜を含む機能性薄膜、窒化膜などを高い再現性をもって成膜できます。
また、低温成膜が可能なため、樹脂基板への多層膜が可能です。
特徴
- 波長シフトのない高密度な
光学薄膜の形成が可能です - 低温成膜のため、
多様なアプリケーションに対応 - 高精度の膜組成、
膜厚の制御が可能、
蒸着ではできない機能膜を
実現します - 高屈折率材料と低屈折率材料による
混合膜により、再現性の高い
中間屈折率膜が可能に - メンテナンス、
掃除の負担を軽減する
工夫がなされています - 排気、プロセス中に発生する
パーティクル対策が
施されています - 稼働管理システムを搭載、
リアルタイムでの状況把握や
ロスの解析等にご利用頂けます
主な用途
- 光学薄膜の形成
- 金属膜の形成
- その他、幅広い用途に対応
仕様概要
| 型式 | RAS-1100C | RAS-1100BⅡ | RAS-1600plus |
|---|---|---|---|
| 基板ドラムサイズ | Φ1100mm×230mm | Φ900mm×400mm | Φ1400mm×910mm |
| ラジカル源 | ICP RF電源 | ICP RF電源×2基 | |
| スパッタ源 | Dual cathode・18”×5”Planer cathode | Dual cathode・27”×5”Planer cathode | Dual cathode・47”×5”Planer cathode |
| 排気システム | 【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14インチTMP×2 マイスナトラップ あらびきユニット |
【CH-1】あらびきユニット 【CH-2】14インチTMP×4 マイスナトラップ あらびきユニット |
|
| オプション | OPM-Z1/Rotary cathode/CH-1ターゲット/CH-1 AFS機構/CH-1 高真空排気系/遊星回転基板ドラム | ||
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営業部
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