誘電体薄膜用スパッタ装置

安定的に誘電体薄膜を形成することが可能

用途:
電子、電気の制御

長年培われた当社技術により安定的に誘電体薄膜を形成することができます。
SiO2、SiN等の保護膜用途にて幅広く利用可能です。

主な用途

  • SAWFilter/BAWFilter/LED/Laser/PCB 他

仕様概要

型式 CSS-2
基板ドーム Φ650mm
スパッタソース マグネトロンスパッタソース(Φ10インチ)×3
スパッタ電源 RF電源×3
排気システム 前室:あらびきポンプ
成膜室:ターボ分子ポンプ1基 + スーパートラップ
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