誘電体薄膜用スパッタ装置
安定的に誘電体薄膜を形成することが可能
- 用途：
- 電子、電気の制御
長年培われた当社技術により安定的に誘電体薄膜を形成することができます。
SiO2、SiN等の保護膜用途にて幅広く利用可能です。
主な用途
- SAWFilter/BAWFilter/LED/Laser/PCB 他
仕様概要
| 型式 | CSS-2 |
|---|---|
| 基板ドーム | Φ650mm |
| スパッタソース | マグネトロンスパッタソース（Φ１０インチ）×3 |
| スパッタ電源 | RF電源×3 |
| 排気システム | 前室：あらびきポンプ 成膜室：ターボ分子ポンプ1基 ＋ スーパートラップ |
お問い合わせ
機能や用途などご要望に適した装置を
ご提案いたします。
お気軽にお問い合わせください。
ご提案いたします。
お気軽にお問い合わせください。
営業部
※製品の仕様は、性能向上のため予告なく変更されることがございます。詳しくは、当社営業スタッフまでお問い合わせください。