誘電体超多層膜用装置

低散乱な超多層膜形成のための専用機

用途:
光学

TiO2/SiO2 282層33μmの多層膜において、ラフネスを抑え「低Hazeを実現」。

特徴

  1. 低散乱(低Haze)な
    超多層膜を実現
  2. 複数の扉により
    メンテナンス性を向上

仕様概要

型式 EPD-1350 EPD-1600
基板ホルダ Φ1200mm Φ1450mm
膜厚計 光学式膜厚計・水晶式膜厚計(6点ロータリーセンサ)
蒸発源 EB x2
アシスト RFイオン源
排気システム あらびきユニット・ターボ分子ポンプ・マイスナトラップ
お問い合わせ
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