研究開発向け小型多元スパッタ装置

材料探索向けスパッタ装置の最高峰

用途:
電子、電気の制御

独自開発したプログラマブルデジタル制御器のもと、多元スパッタ源を複合的に制御できるDPDRS(Digitally Processed DC Reactive Sputtering)技術を採用した研究開発向け小型多元スパッタ装置 PRAS(Programmable – RAS)。

多元スパッタ源と共に反応ガスをプログラマブルに組み合わせることで時分割式高速反応性DCスパッタによる複合金属化合物積層薄膜形成を実現。

これまでにない反応性DCパルススパッタにより、原子層レベルのナノ構造機能性薄膜開発を加速。

特徴

  1. プログラマブルな
    時分割式高速反応性
    スパッタ法
  2. 多元系原子層レベル多層膜の
    成膜が可能
  3. 100V駆動の
    シンプル&コンパクト設計

仕様概要

装置構成 成膜室 予備室 基板自動搬送
基板台 2インチ(最大4インチ)、20rpm、上下20mm
カソード 2インチ(最大4カソード)
ガス導入 スパッタガス(Ar) 反応ガス(O2、N2
基板加熱 カーボンヒーター(最高 600℃)
所用電力 1f 100V±10% 4Kw(最大)
据付⾯積 W1500 mm × D900 mm × H1400 mm
総重量 450Kg
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